ODM Fabrik Kina Billigt Pris Kina Etangas, C2h6 Gaser, Renhet 99,5% R170 Köldmedium

Vi kommer att göra varje enskilt arbete anmärkningsvärt och idealiskt, och påskynda våra steg mot att stå bland världens toppklassiga och högteknologiska företag för ODM Factory China Cheap Price China Ethane Gas, C2h6 Gases, Purity 99.5% R170 Refrigerant, Oändlig förbättring och strävan efter 0% brist är våra två huvudsakliga kvalitetspolicyer. Om du behöver något, tveka inte att kontakta oss.
Vi kommer att göra varje enskilt arbete anmärkningsvärt och idealiskt, och påskynda våra steg mot att placera oss bland världens toppmoderna och högteknologiska företag.Kinas köldmedium R170 och R170 köldmediumMed sin rika tillverkningserfarenhet, högkvalitativa produkter och perfekta eftermarknadsservice har företaget fått ett gott rykte och blivit ett av de berömda företagen som specialiserar sig på tillverkning av serier. Vi hoppas innerligt kunna etablera affärsrelationer med er och sträva efter ömsesidig nytta.

Tekniska parametrar

Etan är en alkan med den kemiska formeln C2H6, med en smältpunkt (°C) på -183,3 och en kokpunkt (°C) på -88,6. Under standardförhållanden är etan en brännbar gas, färglös och luktfri, olöslig i vatten, något löslig i etanol och aceton, löslig i bensen och blandbar med koltetraklorid. Blandningen av etan och luft kan bilda en explosiv blandning, och den kan brinna och explodera vid exponering för värmekällor och öppen låga. Förbränningsprodukterna (sönderdelning) är kolmonoxid och koldioxid. Våldsamma kemiska reaktioner kan uppstå i kontakt med fluor, klor etc. Etan förekommer i petroleumgas, naturgas, koksugnsgas och petroleumkrackad gas och erhålls genom separation. Inom den kemiska industrin används etan huvudsakligen för att producera etylen, vinylklorid, etylklorid, acetaldehyd, etanol, etylenglykoloxid etc. genom ångkrackning. Etan kan användas som köldmedium i kylanläggningar. Den kan också användas som standardgas och kalibreringsgas för värmebehandling inom metallurgisk industri. Förvaras svalt och ventilerat. Förvaras åtskilt från eld och värmekällor. Lagringstemperaturen bör inte överstiga 30 °C. Den bör förvaras separat från oxidanter och halogener, och blandförvaring bör undvikas. Använd explosionssäkra belysnings- och ventilationsanläggningar. Det är förbjudet att använda mekanisk utrustning och verktyg som är benägna att orsaka gnistor. Förvaringsområdet bör vara utrustat med utrustning för akutbehandling av läckage. Lufttät drift, fullständig ventilation. Operatörer måste genomgå särskild utbildning och strikt följa driftsprocedurerna. Det rekommenderas att operatörer bär antistatiska overaller. Under överföringsprocessen måste cylindern och behållaren jordas och överbryggas för att förhindra statisk elektricitet. Lasta och lossa försiktigt under transport för att förhindra skador på cylindrar och tillbehör. Utrustad med motsvarande typer och mängder av brandbekämpningsutrustning och akutbehandlingsutrustning för läckage.

Ansökan:

Produktion av etylen och köldmedium:

Råmaterial för produktion av etylen och köldmedium.

Vanligt paket:

Fördel:

①Hög renhet, senaste anläggningen;

②ISO-certifikattillverkare;

③Snabb leverans;

④Online-analyssystem för kvalitetskontroll i varje steg;

⑤Höga krav och noggrann process för hantering av cylindern före fyllning;Vi kommer att göra varje enskilt arbete anmärkningsvärt och idealiskt, och påskynda våra steg mot att stå bland världens toppklassiga och högteknologiska företag för ODM Factory China Cheap Price China Ethane Gas, C2h6 Gases, Purity 99.5% R170 Refrigerant, Oändlig förbättring och strävan efter 0% brist är våra två huvudsakliga kvalitetspolicyer. Om du behöver något, tveka inte att kontakta oss.
ODM-fabrikKinas köldmedium R170 och R170 köldmediumMed sin rika tillverkningserfarenhet, högkvalitativa produkter och perfekta eftermarknadsservice har företaget fått ett gott rykte och blivit ett av de berömda företagen som specialiserar sig på tillverkning av serier. Vi hoppas innerligt kunna etablera affärsrelationer med er och sträva efter ömsesidig nytta.