Koltetrafluorid (CF4)

Tekniska parametrar

Koltetrafluorid är ett halogenerat kolväte med den kemiska formeln CF4. Det kan betraktas som ett halogenerat kolväte, halogenerat metan, perfluorkolväte eller som en oorganisk förening. Koltetrafluorid är en färglös och luktfri gas, olöslig i vatten, löslig i bensen och kloroform. Stabil under normal temperatur och tryck, undvik starka oxidanter, brandfarliga eller brännbara material. Obrännbar gas, behållarens inre tryck kommer att öka när den utsätts för hög värme, och det finns risk för sprickbildning och explosion. Det är kemiskt stabilt och icke brandfarligt. Endast flytande ammoniak-natriummetallreagens kan fungera vid rumstemperatur. Koltetrafluorid är en gas som orsakar växthuseffekten. Den är mycket stabil, kan stanna länge i atmosfären och är en mycket kraftfull växthusgas. Koltetrafluorid används i plasmaetsningsprocessen för olika integrerade kretsar. Den används också som lasergas och används i lågtemperaturköldmedier, lösningsmedel, smörjmedel, isoleringsmaterial och kylmedel för infraröda detektorer. Det är den mest använda plasmaetsningsgasen inom mikroelektronikindustrin. Det är en blandning av högren tetrafluormetangas och tetrafluormetangas med hög renhet och högrent syre. Det kan användas i stor utsträckning i kisel, kiseldioxid, kiselnitrid och fosfosilikatglas. Etsning av tunnfilmsmaterial som volfram och volfram används också i stor utsträckning vid ytrengöring av elektroniska apparater, solcellsproduktion, laserteknik, lågtemperaturkylning, läckageinspektion och rengöringsmedel vid produktion av tryckta kretsar. Används som lågtemperaturköldmedium och plasma torretsningsteknik för integrerade kretsar. Försiktighetsåtgärder vid lagring: Förvaras i ett svalt, ventilerat obrännbart gaslager. Håll borta från eld och värmekällor. Förvaringstemperaturen bör inte överstiga 30°C. Den bör förvaras separat från lätt (brännbara) brännbara ämnen och oxidanter, och undvik blandad lagring. Förvaringsutrymmet bör utrustas med nödbehandlingsutrustning för läckage.

Ansökan:

① Köldmedium:

Tetrafluormetan används ibland som ett lågtemperaturköldmedium.

② Etsning:

Det används i elektronikmikrotillverkning enbart eller i kombination med syre som plasmaetsningsmedel för kisel, kiseldioxid och kiselnitrid.

Vanligt paket:

Fördel:

①Hög renhet, senaste anläggning;

②ISO-certifikattillverkare;

③Snabb leverans;

④On-line analyssystem för kvalitetskontroll i varje steg;

⑤Höga krav och noggrann process för hantering av cylindern före fyllning;