2019 Etsningsgas av god kvalitet 99,999 % renhet CF4-tetrafluormetan CF4-gas

Vårt företag strävar efter att arbeta troget, betjäna alla våra kunder och arbeta regelbundet med ny teknik och nya maskiner för 2019 års etsningsgas av god kvalitet 99,999 % renhet CF4-tetrafluormetan CF4-gas. Vi välkomnar varmt kunder över hela världen att besöka vår tillverkningsanläggning och ha ett win-win-samarbete med oss!
Vårt företag strävar efter att arbeta troget, betjäna alla våra kunder och arbeta regelbundet med ny teknik och nya maskiner.Kinas CF4-gas och koltetrafluoridgasKundnöjdhet är alltid vår strävan, att skapa värde för kunderna är alltid vår plikt, och en långsiktig och ömsesidigt fördelaktig affärsrelation är vad vi gör. Vi är en absolut pålitlig partner för dig i Kina. Naturligtvis kan andra tjänster, som konsulttjänster, också erbjudas.

Tekniska parametrar

Koltetrafluorid är ett halogenerat kolväte med den kemiska formeln CF4. Det kan betraktas som ett halogenerat kolväte, halogenerad metan, perfluorkolväte eller som en oorganisk förening. Koltetrafluorid är en färglös och luktfri gas, olöslig i vatten, löslig i bensen och kloroform. Stabil vid normal temperatur och tryck, undvik starka oxidationsmedel, brandfarliga eller brännbara material. Icke-brännbar gas, behållarens inre tryck ökar vid hög värme, och det finns risk för sprickbildning och explosion. Den är kemiskt stabil och icke-brännbar. Endast flytande ammoniak-natriummetallreagens kan fungera vid rumstemperatur. Koltetrafluorid är en gas som orsakar växthuseffekten. Den är mycket stabil, kan stanna kvar i atmosfären under lång tid och är en mycket kraftfull växthusgas. Koltetrafluorid används i plasmaetsningsprocessen för olika integrerade kretsar. Det används också som lasergas och används i lågtemperaturkylmedel, lösningsmedel, smörjmedel, isoleringsmaterial och kylvätskor för infraröda detektorer. Det är den mest använda plasmaetsningsgasen inom mikroelektronikindustrin. Det är en blandning av tetrafluormetangas med hög renhet och tetrafluormetangas med hög renhet samt högrent syre. Den kan användas i stor utsträckning i kisel, kiseldioxid, kiselnitrid och fosfosilikatglas. Etsning av tunnfilmsmaterial som volfram och volfram används också i stor utsträckning vid ytrengöring av elektroniska apparater, solcellsproduktion, laserteknik, lågtemperaturkylning, läckageinspektion och rengöringsmedel vid tillverkning av tryckta kretsar. Används som lågtemperaturkylmedel och plasmaetsningsteknik för integrerade kretsar. Försiktighetsåtgärder vid förvaring: Förvara i ett svalt, ventilerat lager för icke-brännbart gas. Förvaras åtskilt från eld och värmekällor. Lagringstemperaturen bör inte överstiga 30 °C. Den bör förvaras separat från lätt (brännbara) brännbara ämnen och oxidanter, och blandad lagring bör undvikas. Lagringsområdet bör vara utrustat med utrustning för akut läckagebehandling.

Ansökan:

① Köldmedium:

Tetrafluormetan används ibland som ett lågtemperaturkylmedel.

② Etsning:

Det används i elektronikmikrofabrikation ensamt eller i kombination med syre som ett plasmaetsmedel för kisel, kiseldioxid och kiselnitrid.

Vanligt paket:

Fördel:

①Hög renhet, senaste anläggningen;

②ISO-certifikattillverkare;

③Snabb leverans;

④Online-analyssystem för kvalitetskontroll i varje steg;

⑤Höga krav och noggrann process för hantering av cylindern före fyllning;Vårt företag strävar efter att arbeta troget, betjäna alla våra kunder och arbeta regelbundet med ny teknik och nya maskiner för 2019 års etsningsgas av god kvalitet 99,999 % renhet CF4-tetrafluormetan CF4-gas. Vi välkomnar varmt kunder över hela världen att besöka vår tillverkningsanläggning och ha ett win-win-samarbete med oss!
2019 God kvalitetKinas CF4-gas och koltetrafluoridgasKundnöjdhet är alltid vår strävan, att skapa värde för kunderna är alltid vår plikt, och en långsiktig och ömsesidigt fördelaktig affärsrelation är vad vi gör. Vi är en absolut pålitlig partner för dig i Kina. Naturligtvis kan andra tjänster, som konsulttjänster, också erbjudas.