2019 GAS GAS 99.999% PURITY CF4 TETRAFLUOMETANE CF4 GAS

Vårt företag syftar till att arbeta troget, tjäna till alla våra möjligheter och arbeta i ny teknik och ny maskin ofta för 2019-etsningsgas 99.999% Purity CF4 Tetrafluormetane CF4 Gas, vi välkomnar helhjärtat kunder över hela världen att besöka vår tillverkande facilitet och ha ett samarbete med oss!
Vårt företag syftar till att arbeta troget, tjäna till alla våra möjligheter och arbeta i ny teknik och ny maskin ofta förKina CF4 -gas och kol tetrafluoridgas, Kundens tillfredsställelse är alltid vår uppdrag, att skapa värde för kunder är alltid vår plikt, en långsiktig ömsesidig gynnsam affärsförhållande är vad vi gör för. Vi är en absolut tillförlitlig partner i ditt fall i Kina. Naturligtvis kan andra tjänster, som Consulting, också erbjudas.

Tekniska parametrar

Koltetrafluorid är ett halogenerat kolväte med den kemiska formeln CF4. Det kan betraktas som ett halogenerat kolväte, halogenerad metan, perfluorkol eller som en oorganisk förening. Koltetrafluorid är en färglös och luktfri gas, olöslig i vatten, löslig i bensen och kloroform. Stabil under normal temperatur och tryck, undvik starka oxidanter, brandfarliga eller brännbara material. Icke-brännbar gas, behållarens inre tryck kommer att öka när den utsätts för hög värme, och det finns en fara för sprickor och explosion. Det är kemiskt stabilt och icke-brandfarligt. Endast flytande ammoniak-sodiummetallreagens kan fungera vid rumstemperatur. Koltetrafluorid är en gas som orsakar växthuseffekten. Det är mycket stabilt, kan stanna i atmosfären länge och är en mycket kraftfull växthusgas. Koltetrafluorid används i plasma -etsningsprocessen för olika integrerade kretsar. Den används också som lasergas och används i kylmedel med låg temperatur, lösningsmedel, smörjmedel, isolerande material och kylmedel för infraröda detektorer. Det är den mest använda plasmasetadgasen i mikroelektronikindustrin. Det är en blandning av tetrafluorometan med hög renhet gas och tetrafluormetan med hög renhet gas och hög renhet syre. Det kan användas i stor utsträckning i kisel, kiseldioxid, kiselnitrid och fosfosilikatglas. Etsningen av tunna filmmaterial såsom volfram och volfram används också i stor utsträckning vid ytrengöring av elektroniska anordningar, solcellsproduktion, laserteknik, lågtemperaturkylning, läckinspektion och tvättmedel i tryckt kretsproduktion. Används som ett lågtemperaturkylmedels- och plasma torr etsningsteknik för integrerade kretsar. Försiktighetsåtgärder för förvaring: Förvara i ett svalt, ventilerat icke-brännbart gaslager. Håll dig borta från eld- och värmekällor. Lagringstemperaturen bör inte överstiga 30 ° C. Det bör lagras separat från enkelt (brännbara) brännbara och oxidanter och undvika blandad lagring. Lagringsområdet ska vara utrustat med utrustning för nödbehandling av läckage.

Ansökan:

① Kylmedel:

Tetrafluormetan används ibland som kylmedels med låg temperatur.

② ETCHING:

Det används i elektronikmikrofabrikering ensam eller i kombination med syre som en plasma -etist för kisel, kiseldioxid och kiselnitrid.

Normalt paket:

Fördel:

①hög renhet, senaste anläggningen;

②iso certifikatstillverkare;

③fast leverans;

④On-linje analyssystem för kvalitetskontroll i varje steg;

⑤hög krav och noggrann process för hantering av cylinder före fyllning;Vårt företag syftar till att arbeta troget, tjäna till alla våra möjligheter och arbeta i ny teknik och ny maskin ofta för 2019-etsningsgas 99.999% Purity CF4 Tetrafluormetane CF4 Gas, vi välkomnar helhjärtat kunder över hela världen att besöka vår tillverkande facilitet och ha ett samarbete med oss!
2019 bra kvalitetKina CF4 -gas och kol tetrafluoridgas, Kundens tillfredsställelse är alltid vår uppdrag, att skapa värde för kunder är alltid vår plikt, en långsiktig ömsesidig gynnsam affärsförhållande är vad vi gör för. Vi är en absolut tillförlitlig partner i ditt fall i Kina. Naturligtvis kan andra tjänster, som Consulting, också erbjudas.